电信技术论文_基于OVD工艺新型大有效面积

文章摘要:本文采用一种具有中心凹陷的三角形芯+环形的折射率剖面设计，利用外部气相沉积（OVD）工艺制备了新型非零色散位移 G.655.D 光纤。实验结果表明：在 1550nm 和 1625nm 波长处，光纤的衰减值分别为0.195 dB/km 和 0.203 dB/km，截止波长为 1200 nm，光纤绕半径为 25mm 的圆柱体 100 圈时 1550nm 和 1625nm 波长处的宏弯损耗值分别为 0.027 dB 和 0.045 dB，在 1530～1625nm 波段的色散为 1.6～9.6 ps/nm·km，尤其在 1550nm 波长处，光纤的有效面积达到 72 μm~2，比常规 G.653 光纤大 1.4 倍。通过此种设计和方法制作的光纤实现零色散波长的平移，获得良好的纵向色散均匀性、良好的弯曲损耗，以及有效面积，适用于1530～1625 nm 波段的密集波分复用（DWDM）应用，在长距离光纤通信中将对四波混频（FWM）、交叉相位调制（XPM）等非线性效应具有较好抑制，减少色散管理成本，具有非常重要的实践应用价值。

文章关键词:

论文分类号:TN929.1

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